數值孔徑-奧林巴斯顯微鏡|奧林巴斯金相顯微鏡|工業顯微鏡|生物顯微鏡|倒置顯微鏡|上海普赫光電科技有限公司官網-第23頁

奧林巴斯顯微鏡共聚焦顯微鏡的物鏡結構

任何常規光學顯微鏡的配置，物鏡是在確定圖像的信息內容的系統中最關鍵的部分。精細標本細節的對比度和分辨率，其中的信息可以被獲得的樣品內的深度，和圖像領域的橫向范圍都是由物鏡的、用于觀測的具體條件下的性能確定的設計。額外的要求是在共聚焦掃描技術對物鏡，在這個關鍵的成像組件也可作為照明聚光鏡和經常需要進行高精度在很寬的波長范圍內和在非常低光水平，不引入不可接受的圖像退化的噪聲。無論任何

2020-09-03

尼康顯微鏡平衡電弧放電光源激發照明

微調的熒光顯微鏡的激發光譜成像雙或多標記的標本可以用分濾波器容易實現激發平衡器，其中包含串聯shortpass和長通干擾，轉換的照明光圈調整弧放電燈的波長分布輪廓濾波器。這種互動教程探討尼康Eclipse I系列激發平衡器系統影響的熒光發射強度的多標記樣品時，采用雙重和三重激發帶濾波器的組合結合。本教程以初始化出現在樣品圖像窗口中隨機選擇雙重或三重熒光標記的樣本圖像。臨近這個窗口是一個頻譜圖題為

2020-09-03

尼康顯微鏡相差板的標本對比配置的影響

環繞的傳輸延遲性能（衍射）中光通過相差顯微鏡相差板環能顯著影響整體標本的對比觀察。這種互動教程探討對比度變化引起的改變相板的吸收和遲滯特性。與隨機選擇的樣本圖像出現在初始化教程相差對比圖像在右手側窗的教程。每個標本用于本教程是比較厚的顯示器的對比度的影響是依賴于物鏡相差板配置。為了操作的教程，使用相差對比模式滑塊來改變，與一個標準的黑暗之間觀察到標本對照（低DL）和高濃度（高密度的黑暗中（中性）

2020-09-03

奧林巴斯顯微鏡在無限遠光學系統物鏡放大倍數

無限遠校正顯微鏡的光學系統設計使輔助設備的插入，如垂直照明和中間管，在物鏡和目鏡之間的光學路徑而不引入的球面像差，需要重點改正，或創建其他的圖像的問題。在一個有限的光學系統，光線穿過的物鏡集中在圖像平面上產生圖像。情況是無限遠校正光學系統的物鏡產生的磁通平行光成像在無窮遠處的波列不同，都成了焦點在由管透鏡中間圖像平面。本教程將探討如何變化，管透鏡和物鏡焦距影響在無限遠校正顯微鏡物鏡的放大倍率。奧

2020-09-03

當諾馬斯基或修改沃拉斯頓復合微分干涉對比（DIC）棱鏡夾在兩個交叉偏振器之間并檢查通過這兩個偏振片和棱鏡，并行干涉條紋與主要的中央黑色帶（邊緣）的模式透射光可觀察。這種互動式的教程探討如何改變棱鏡楔形狀，用于不同物鏡的數值孔徑，影響了交叉偏振器之間觀察到的干涉條紋。教程初始化與位于兩個偏振器（通常被稱為一個偏振器和分析儀），其被定向隨機相對于所述傳輸振動面之間的隨機選擇的物鏡棱鏡（10倍至60倍）

2020-09-03

徠卡顯微鏡關于顆粒污染清潔度分析

裝置，產品，和制造在許多行業中其組分可以是污染相當敏感，并且作為結果，有潔凈度嚴格的要求。測量系統自動顆粒分析往往利用對產品和組件的清潔度定量驗證，以實現這樣的行業如汽車，航空航天，微電子，制藥和醫療設備的需求。本報告討論了使用基于顯微測量系統自動顆粒分析。介紹顆粒污染的關鍵：有潔凈度要求的行業污染產生的交通敏感產品和產品組件（汽車/卡車，航空/航天，鐵路），微電子（集成電路，印刷電路板，半導體）

2020-09-03

尼康顯微鏡Sénarmont DIC構造

無論是透射或反射的光學顯微鏡用于使用德Sénarmont補償器在微分干涉對比（DIC）的操作的配置提供了更為緯度和精度為采用偏壓相位差的比是可能的，依賴于物鏡諾馬斯基的翻譯系統（或沃拉斯頓）橫跨光路的棱鏡。實際上，它包含偏光元件和必要的聚光鏡和物鏡分束棱鏡化合物任何顯微鏡可以容易地轉換為在去Sénarmont模式操作，而不管是否顯微鏡最初被設計用于此物鏡。幾個主要的顯微鏡制造商正在生產DIC附件套

2020-09-03

徠卡顯微鏡目鏡物鏡和光學畸變

對于大多數顯微鏡應用，通常僅由用戶調整的兩組光學元件，即物鏡和目鏡。當然，這是假設顯微鏡已經被校正了Koehler照明，在此期間調節了聚光鏡和隔膜。本文介紹了目鏡的組成部分，以及如何正確調整目鏡，以適應您的眼睛。為了實現物鏡，我們將研究光學畸變和糾正以克服這些異常的四個最常見的物鏡。目鏡和物鏡由顯微鏡制造商設計，以組合和光學互補。如果由于任何原因您正在更換顯微鏡之間的目鏡或物鏡，這是應該記住的。顯

2020-09-03

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